1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049成像系统
3 新疆师范大学物理与电子工程学院, 新疆, 乌鲁木齐 830000
4 中芯国际集成电路制造有限公司, 上海 201203
提出一种基于交替相移掩模空间像的光刻机投影物镜偏振像差检测方法。采用泡利-泽尼克系数表征偏振像差，结合X和Y两种线性偏振照明方式，用像传感器测量不同照明条件下掩模空间像的成像位置偏移与最佳焦面偏移，利用标定的偏振像差灵敏度矩阵计算获得泡利-泽尼克系数。采用光刻仿真软件对本文方法的有效性进行了验证，结果表明其检测精度优于3.07 mλ。
成像系统 光学制造 光刻 偏振像差 泡利-泽尼克系数 偏振像差测量
