1 中国科学院上海光学精密机械研究所
2 浙江大学光仪系
用具有高灵敏的共线光热偏转技术研究SiO2、ZrO2、MgF2、ZnS等单层光学薄膜的吸收特性,测得它们的吸收率.实验结果与激光量热法及横向光热偏转技术符合良好,表明共线光热偏转技术是测量光学薄膜弱吸收的较理想方法.
光热偏转光谱术 薄膜弱吸收
1 中国科学院上海光学精密机械研究所
2 浙江大学光仪系
用横向光热偏转技术研究光学薄膜的吸收损耗.结果表明:对ZrO2、MgF2、ZnS等单层膜,薄膜-基底界面吸收、空气-薄膜界面吸收以及薄膜体内吸收三者处于同一量级,而对TiO2、Ta2O5、SiO2等样品,薄膜-基底界面吸收远大于空气-薄膜界面吸收及薄膜体内吸收,是吸收损耗的主要来源.
薄膜吸收损耗 光热偏转光谱术
用横向光热偏转技术(TPDS)测量光学薄膜的弱吸收,灵敏度达10~(-5).因为薄膜样品在调制频率较低时属热薄试样,本文基于这一原理实现了TPDS的精密定标.
光热偏转光谱术 薄膜弱光吸收
