针对大角度（大于50°）衍射光学元件低成本、批量化制备的需求，提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板，然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上，完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用，降低了制作成本，提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸（最小为250 nm，衍射全角为70°）的衍射光学元件，具有良好的衍射效果，实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.
衍射光学元件 低成本 批量化 纳米压印 跨尺度兼容 Diffractive Optical elements Low cost Mass production Nanoimprint lithography Nanometer scale
