为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜，研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上，将挡板法和预镀层技术相结合，采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜，对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性，以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上，设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%，单面镀膜增透膜的透射率为93.85%，增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6％。要得到高性能的193 nm增透膜，应选用超级抛光基底。

为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技术相结合,实现了在现有镀膜机上对193 nm薄膜的膜厚控制。在熔石英基底(JGS1)上,用热舟蒸发制备了不同氟化物材料组合高反膜,对不同氟化物材料组合高反膜的反射率、透射率和光学损耗等光学特性,横截面形貌和表面粗糙度等微结构以及应力等特性进行了讨论和比较。在对不同材料组合高反膜性能分析比较的基础上,对应用于高反膜膜材料组合进行了优化选择,以NdF3/AlF3为材料对,设计制备了193 nm高反膜。193 nm氟化物高反膜的反射率达到96%。

为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数, 研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料, 分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6；用商用Lambda900光谱仪测量了它们在190～500 nm范围的透射率光谱曲线；用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数, 由柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合, 得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的MgF2和LaF3的结果相一致, 证明了结果的可靠性。