1 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800谭天亚
2 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800贺洪波
3 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800邵建达
4 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800范正修
5 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海201800
石英晶体振荡监控光学薄膜厚度是直接监控光学薄膜物理厚度的方法,与工作波段无关,设置简单,各种厚度皆可控制,易于实现自动控制,将会越来越广泛地应用在光学薄膜厚度监控中。本文首先介绍了石英晶体监控膜厚仪监控光学薄膜厚度的原理,然后讨论了石英晶体监控仪的发展和晶振片的稳定性。
石英晶体振荡法 薄膜厚度 原理
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海市800-211信箱,上海,201800
给出了石英晶体振荡法监控膜厚的基本原理,在相同的工艺条件下分别用光电极值法和石英晶体振荡法监控膜厚,对制备的增透膜的反射光谱曲线进行了比较,并对石英晶体振荡法的监控结果做了误差分析.结果表明:石英晶体振荡法不仅膜厚监控精度高,而且能监控沉积速率,获得稳定的膜层折射率,从而有效地控制薄膜的光学性能.
光学薄膜 石英晶体振荡法 光电极值法 工具因子 误差
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
在电子束蒸发沉积制备ZrO2薄膜的过程中,采用石英晶体振荡法监控膜厚和沉积速率。用NKD7000分光光度计测量了ZrO2薄膜的折射率和膜厚,用原子力显微镜分别观测了不同工作气压和沉积速率下薄膜的表面形貌、均方根粗糙度。结果表明,随着工作气压的升高,膜层的结构变疏松,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之减小。随着沉积速率的增大,膜层的结构变致密,薄膜的折射率和均方根粗糙度都随之增大。并且从工具因子（TF）的角度得到了证实。实际镀膜过程中应该根据激光薄膜的应用需要选用合适的工艺条件,在允许的均方根粗糙度范围内提高膜层的结构致密性和折射率。
薄膜 ZrO2薄膜 工作气压 沉积速率 石英晶体振荡法
