提出了一种提高光电极值法中膜层厚度监控精度的新方法。通过提高判读点的精度, 避免了光学极值法中停镀时存在的随机误差; 通过算法的处理, 将监控信号和光学厚度间的非线性关系转变成了线性关系, 并推算出最佳起判时间, 避免了监控薄膜沉积时非线性误差对极值点判别的影响。

光电极值法是光学薄膜厚度监测的常用方法, 该方法在镀膜前引用块状材料的折射率设计膜系。而在实际镀制过程中, 用于镀制光学薄膜的材料折射率会发生改变, 从而给膜厚的监控带来误差。为了避免折射率变化的影响, 采用外差干涉法测量折射率, 将实际测得的薄膜折射率应用光电极值法监控薄膜的设计, 从而减少了因材料折射率的变化引起的误差。以750nm截止滤光片的镀制为被测对象进行了实验, 对制备的滤光片透射率光谱曲线进行了比较。结果表明, 实际的透射率曲线与设计的透射率曲线吻合较好, 两次实验曲线平均吻合度均在98%以上, 系统稳定性很好, 从而说明结合外差干涉法的光电极值监控法可以很好地克服折射率变化引起的误差。

针对光电极值法和石英晶振法各自的弊端，结合两种方法提出了光控-晶控膜厚监控法.在相同工艺条件下，分别使用这三种方法监控905 nm窄带滤光片（规整膜系）和830 nm截止滤光片（非规整膜系）的膜厚，对制备的滤光片的透射率光谱曲线进行比较.结果表明，光控-晶控膜厚监控法除了各项指标都符合要求外，在曲线通带处获得的平均透过率值比光电极值法和石英晶振法获得的平均透过率值提高了3%～6%，且与理论光谱基本吻合，光谱特性最好.该方法不仅对规整和非规整膜系都能进行监控，且能有效降低膜厚误差，提高光谱特性.

给出了石英晶体振荡法监控膜厚的基本原理,在相同的工艺条件下分别用光电极值法和石英晶体振荡法监控膜厚,对制备的增透膜的反射光谱曲线进行了比较,并对石英晶体振荡法的监控结果做了误差分析.结果表明:石英晶体振荡法不仅膜厚监控精度高,而且能监控沉积速率,获得稳定的膜层折射率,从而有效地控制薄膜的光学性能.