成健 1,2曹佳丽 1张恒超 1吴颖 1[ ... ]刘顿 1,2,*
作者单位
摘要
1 湖北工业大学机械工程学院, 湖北 武汉 430068
2 湖北工业大学中英联合超快激光加工研究中心, 湖北 武汉 430068
为实现基于超快激光铝板浸润性梯度轨迹上的液滴无泵运输,进一步提高液滴运动速度,利用纳秒激光器在1050铝板上制备出超疏水表面,再通过飞秒激光器在超疏水表面制备出楔形超亲水轨迹。采用接触角测量仪、电子扫描显微镜和傅里叶红外光谱仪测量样品表面的浸润性、表面形貌和化学成分,通过高速摄像机记录液滴在水平面和30°斜面上的运动情况。结果表明:通过激光方法可在铝板上制备出浸润性循环转变的表面,接触角由0°变为164.6°,再由164.6°变为0°;随着超亲水轨迹楔角α由4°变为10°,液滴的最大速度由300 mm/s变为500 mm/s;随着样品的加热环境由空气变为真空,样品滚动角由大于30°降为3.04°,液滴的平均速度由50 mm/s变为100 mm/s。增大轨迹楔角或降低超疏水表面黏附力,都可以有效提高液滴在浸润性梯度轨迹上的运动速度。
激光技术 1050铝板 可控浸润性 表面粘附力 无泵运输 
中国激光
2019, 46(11): 1102012
作者单位
摘要
1 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司, 内蒙古 鄂尔多斯 017000
2 京东方科技集团股份有限责任公司, 北京 100176
本文对影响LTPS工艺中光刻胶和衬底间粘附力的4个因素进行了实验及理论分析。经实验发现: 衬底的材质和粗糙度以及光刻胶中分子量的分布是影响光刻胶和衬底粘附力的最重要的两个因素。在改善粘附力方面HMDS对于电负性较强的金属衬底和光刻胶的粘附力有较好的改善效果, 对于SiNX、A-Si及P-Si衬底改善效果明显, 且无差异, 对于ITO没有改善。光刻胶涂布后适当延长烘烤时间也可以有效改善光刻胶和衬底的粘附力。
粘附力 光刻胶   氧化铟锡 多晶硅 非晶硅 氮化硅 adhesive force photoresist Mo Ti ITO Poly-Si A-Si SiNX 
液晶与显示
2017, 32(3): 190
张洪 1,2,*晋云霞 2孔钒宇 2黄昊鹏 1,2[ ... ]叶邦角 3
作者单位
摘要
1 中国科学院大学, 北京 100049
2 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室, 上海 201800
3 中国科学技术大学近代物理系核探测与核电子学国家重点实验室, 合肥 230026
对金属介质多层膜样品进行不同温度的退火处理。实验发现,当退火温度为350 ℃时,在样品Au层与SiO2层的界面处出现过渡层,样品具有很强的抗化学清洗能力。利用透射电子显微镜观测与能谱仪分析发现,过渡层的出现主要是Cr原子从Au层底部扩散到SiO2层的结果。过渡层可以增强Au层与SiO2层间的粘附力,阻挡酸溶液的渗入,使得金属介质多层膜的抗化学清洗能力得到增强。
材料 界面扩散 化学清洗 退火 粘附力 
中国激光
2016, 43(10): 1003002
作者单位
摘要
中国科学技术大学,工程科学学院,安徽,合肥,230026
报道了一种利用压电陶瓷双晶片驱动的适用于尺寸在20~200μm之间微器件装配操作的微操作器.夹持臂尖端直径约15 μm,在80 V的电压驱动下闭合约200μm的距离.通过理想操作模型分析了微器件释放的位置误差来源和提高微器件释放位置精度的方法,并进行了高分子小球的排列和释放实验.在相对湿度50%的环境下对直径约170μm的高分子小球的操纵中,实现了2μm的释放位置精度.实验表明本微操作器能高精度地完成微器件的拾取、移动和释放操作.
微操作器 位置精度 压电陶瓷双晶片 粘附力 
光学 精密工程
2005, 13(3): 283
作者单位
摘要
上海交通大学物理系,上海,200030
分析了吸附于介质表面的微米颗粒所受的力,并通过理论模型估计了直径为1.5 μm的小球在表面所受到的粘附力为10 -6 N量级。同时利用脉冲激光的光压对吸附于蓝宝石玻璃表面的玻璃小球进行了粘附力的测量。测量结果和理论计算值吻合。在给定实验条件下,粘附力的大小主要是由毛细力决定的。
应用光学 光压 粘附力 毛细力 
中国激光
2003, 30(11): 1023

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