1 南京理工大学电子工程与光电技术学院, 江苏 南京 210094
2 微光夜视技术重点实验室, 陕西 西安 710065
3 上海航天技术研究院808所, 上海 201109
为了获得清洁度更高的InGaAs材料表面,利用氢氟酸溶液、盐酸与水的混合溶液、盐酸与异丙醇的混合溶液,研究了化学清洗方法对材料表面碳污染物和氧化物的去除效果,并在此基础上提出了一种与紫外臭氧清洗相结合的方法。利用扫描聚焦X射线光电子能谱技术,对不同方法清洗后的InGaAs样品表面进行分析,基于样品表面产生的二次电子图像,对表面进行了微区特征分析,精准检测了表面化学成分和表面被腐蚀程度。分析发现,基于氢氟酸溶液的刻蚀会严重腐蚀样品表面,破坏表面结构和成分,而结合了紫外臭氧清洗的基于盐酸和异丙醇混合溶液的刻蚀对样品表面具有更好的清洁效果,能够更好地去除表面的碳污染物和氧化物。
材料 InGaAs材料 扫描聚焦X射线 表面污染 化学清洗
1 中国科学院大学， 北京 100049
2 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室， 上海 201800
3 中国科学技术大学近代物理系核探测与核电子学国家重点实验室, 合肥 230026
对金属介质多层膜样品进行不同温度的退火处理。实验发现，当退火温度为350 ℃时，在样品Au层与SiO2层的界面处出现过渡层,样品具有很强的抗化学清洗能力。利用透射电子显微镜观测与能谱仪分析发现，过渡层的出现主要是Cr原子从Au层底部扩散到SiO2层的结果。过渡层可以增强Au层与SiO2层间的粘附力，阻挡酸溶液的渗入，使得金属介质多层膜的抗化学清洗能力得到增强。
材料 界面扩散 化学清洗 退火 粘附力 中国激光
2016, 43(10): 1003002
1 重庆光电技术研究所, 重庆 400060
2 重庆城市管理职业学院, 重庆 401331
通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中, 添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA), 实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weibull分布, 评价了不同清洗方法所得氧化层的质量。结果表明, 上述改进能够显著提高对颗粒粘污和金属粘污的去除效果, 同时能省去RCA的SC-2清洗步骤, 具有节省工时、化学试剂消耗量小的优势。
RCA清洗法 湿法化学清洗 四甲基氢氧化铵(TMAH) 乙二胺四乙酸(EDTA) RCA cleaning process wet chemical cleaning tetramethylammonium hydroxide (TMAH) ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA)
1 上海理工大学理学院凝聚态物理研究所,上海 200093
2 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
利用p-偏振双面反射法、原子力显微术及激光损伤实验,对经不同化学清洗的K9平板玻璃基片表面的光学特性进行了综合表征.实验结果表明,经酸洗的玻璃表面,其消光系数明显减小,而光洁度和激光损伤阈值明显提高;通过进一步的碱洗,玻璃表面的光学性能仍可得到一定的改善.另外,随玻璃基片清洗程序的不断深入,p-偏振双面反射法测得的玻璃表面层光学参量的变化趋势,与观测的表面粗糙度及激光损伤阈值的变化趋势一致.
材料科学 玻璃表面层 p-偏振光 化学清洗 光学参量 激光损伤阈值
