作者单位
摘要
1 渤海大学新能源学院, 锦州 121013
2 锦州师范高等专科学校, 锦州 121000
本文对在抛光铜衬底上通过填隙法制备的高质量石墨烯薄膜进行了详细研究。在电化学机械抛光后的铜衬底上制备石墨烯晶畴, 降低了晶畴的成核密度。利用光学显微镜和扫描电子显微镜对抛光铜衬底和未抛光铜衬底上制备的石墨烯晶畴进行测试, 测试结果表明, 铜衬底的表面形态对于降低石墨烯的成核密度, 增大石墨烯晶畴的尺寸起到了至关重要的作用。利用拉曼面扫描证明了所制备的石墨烯晶畴为单层、均匀的石墨烯晶畴。然后, 通过填隙法在抛光铜衬底上制备出由大尺寸单层的六边形石墨烯晶畴组成的石墨烯连续薄膜, 并且通过流程示意图解释了填隙法制备高质量石墨烯薄膜的过程。本文所提出的在抛光铜衬底上通过填隙法制备石墨烯薄膜的技术, 能够有效提高石墨烯薄膜的质量, 进而有效改善石墨烯基电子器件的性能。
填隙法 化学气相沉积 石墨烯 抛光 成核密度 铜衬底 gap-filling method chemical vapor deposition graphene polishing nucleated density copper substrate 
人工晶体学报
2020, 49(6): 1101
作者单位
摘要
1 陕西师范大学 物理学与信息技术学院,西安 710062
2 西安邮电大学 电子工程学院,西安 710121
应用激光光谱学方法, 研究了铜表面Rh6G分子的荧光增强效应对于金属衬底表面所形成的氧化层的依赖关系, 探索了由于空气氧化而形成的氧化层在表面荧光增强效应中的重要意义和作用机理.实验采用罗丹明6G荧光探针分子, 在532 nm连续光激发下, 研究机械抛光铜金属衬底在经历不同氧化时间, 对吸附其表面的Rh6G分子的荧光增强效果.研究结果表明, 适当控制金属样品表面的氧化时间, 金属铜表面对若丹明分子的荧光发射表现出猝灭和增强效应.金属氧化层起到了隔离荧光分子与金属表面的作用, 减弱了由于激发态荧光分子向金属转移非辐射能量和在金属表面诱导反向偶极子而产生的荧光猝灭效应, 从而提高了纯金属铜表面荧光增强辐射行为.因此在微纳金属衬底的荧光增强效应研究中, 采用适当的实验手段, 精确控制隔离层间距, 是表面增强光谱获取的重要途径之一.
表面增强荧光 机械抛光铜衬底 金属氧化层 隔离层 Surface enhanced fluorescence Physically polished Copper surface Metal oxide layer Spacer 
光子学报
2012, 41(7): 874

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