同济大学 精密光学工程技术研究所 物理系，上海 200092
为提高Mo/Si多层膜的稳定性与使用寿命，通过分析多层膜驻波电场的分布，对表面保护层及多层膜最上层材料的厚度进行优化设计，使优化后的反射率最高.计算表明，一定厚度的表面保护层总对应一个最优的最上层材料厚度.在13.36 nm波长，膜对数为50的Mo/Si多层膜10度入射的理论反射率为74.47%；当添加厚度为2.3 nm的Ru作为表面保护层，对应多层膜最上层Si的优化厚度为3.93 nm，其理论反射率为75.20％.设计结果表明，通过优化设计表面保护层，可以提高多层膜稳定性，改善多层膜性能.
薄膜光学 多层膜 表面保护层 驻波电场分布 反射率 Thin film optics Multilayer Capping layers Electrical field Reflectivity
对指数型一维非均匀薄膜中的波动方程进行解析求解.场强按贝塞耳函数变化.将非均匀薄膜迭镀在λ/4反射膜堆的顶部,求得了驻波电场的分布.结果表明,非均匀薄膜可作为减小光学损耗的一种有效途径.
光学薄膜 驻波电场
