中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室, 上海 201800
对光学薄膜的性能及制备技术等方面进行了简要的评述，并指出随着科学技术的进步，光学薄膜及相关技术不论从广度还是深度来看都得到了显著发展。
薄膜 薄膜技术 制备 检测 监控
中国科学院 上海光学精密机械研究所 中国科学院强激光材料科学与技术重点实验室， 上海 201800
概括介绍了高功率激光系统光学薄膜的种类及特点，详细阐述了高功率激光薄膜研究进展，并对高功率激光薄膜的研究趋势进行了展望。
高功率激光 光学薄膜 激光损伤
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
提出了光学薄膜温度场设计的概念,研究分析了薄膜光学性质和热、物性质对其温度场的影响。给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计。还给出了相变膜的写入、擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。
光学薄膜 热传导 温度场设计
实验研究了在不同波长、不同脉宽激光作用下,光学薄膜破坏的重复率效应并结合理论分析和在破坏过程中的光热监测,探讨了光学薄膜累积破坏的机理。
激光损伤 光学薄膜 重复频率
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
本文给出了透明基体上的单层薄膜在激光辐照下的温度分布和光热形变偏转信号的理论表达式。通过数值计算,分析了偏转信号与薄膜参数、基体参数以及调制频率之间的关系,用反射式光热偏转装置对光学薄膜的光热偏转信号进行了实验研究。结果表明,理论计算和实验结果是一致的。
光学薄膜 光热偏转
报道了用磁控溅射制备氮化铝薄膜的工艺过程和实验结果.给出了氮化铝薄膜的光学常数与氩气、氮气压强之间的关系.结果表明,氮化铝薄膜的光学性质,很大程度上取决于氮气和氩气之间的压强比.
磁控溅射 薄膜 光盘
TeSeIn是一种可逆光存贮介质.分别用单源热蒸发和磁控溅射制备TeSeIn膜.利用透射电镜(TEM)研究了膜的结构和微观形貌.利用俄歇剖面技术(AES-PRO)给出了膜的组分深度剖面,分析了TeSeIn记录介质膜与ZnS保护膜界面间的互扩散大小.利用X光电子能谱(XPS)分析了组元深能级结合能的化学位移.最后根据上面实验结果简要讨论了制备稳定的多元记录介质膜的方法.
TeSeIn光学薄膜
用气相化学沉积法制备薄膜的过程，包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物，氢化物和卤化物）以及有关化学动力学和催化剂等理论问题的研究。对气相化学沉积法的巨大兴趣是用来制备光学参数较好的薄膜。一般情况下其性能大大优于用其他方法，如真空热蒸发、阴极或磁控溅射、离子辐射以及化学方法制备的薄膜。
