光学学报, 2014, 34 (9): 0905002, 网络出版: 2014-08-15   

极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型

Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography
作者单位
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
引用该论文

刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型[J]. 光学学报, 2014, 34(9): 0905002.

Liu Xiaolei, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(9): 0905002.

引用列表
1、 极紫外光刻掩模相位型缺陷检测方法光学学报, 2023, 43 (1): 0112001
2、 极紫外光刻掩模缺陷检测与补偿技术研究激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922022
3、 极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法光学学报, 2020, 40 (10): 1005001
8、 极紫外辐照损伤测试系统光学仿真研究激光与光电子学进展, 2015, 52 (6): 62201

刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型[J]. 光学学报, 2014, 34(9): 0905002. Liu Xiaolei, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(9): 0905002.

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