光学学报, 2014, 34 (9): 0905002, 网络出版: 2014-08-15
极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型
Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography
衍射 极紫外光刻 多层膜模型 单平面近似 diffraction extreme ultraviolet lithography multilayer model single surface approximation
知识挖掘
相关论文
2024年
2024年
2024年
2022年
2022年
2020年
2018年
2017年
2015年
2015年
本文相似领域研究进展,
知识服务
本文主要研究领域论文发表情况:
358篇
354篇
57篇
2篇
1篇
本文研究领域论文发表情况(统计图):
刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型[J]. 光学学报, 2014, 34(9): 0905002. Liu Xiaolei, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(9): 0905002.