光学学报, 2014, 34 (9): 0905002, 网络出版: 2014-08-15
极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型
Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201434.0905002 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 衍射与光栅 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(61275207,61205102)、科技部国际科技合作专项(2011DFR10010) |
| 收稿日期: | 2014-03-25 |
| 修改稿日期: | 2014-05-30 |
| 网络出版日期: | 2014-08-15 |
| 通讯作者: | 刘晓雷 (liuxl@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
刘晓雷, 李思坤, 王向朝. 极紫外光刻含缺陷多层膜衍射谱仿真简化模型[J]. 光学学报, 2014, 34(9): 0905002. Liu Xiaolei, Li Sikun, Wang Xiangzhao. Simplified Model for Defective Multilayer Diffraction Spectrum Simulation in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2014, 34(9): 0905002.
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