纳米光刻中调焦调平测量系统的工艺相关性

孙裕文; 李世光; 叶甜春; 宗明成

doi:doi:10.3788/aos201636.0812001

光学学报, 2016, 36 (8): 0812001, 网络出版: 2016-08-18

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Process Dependency of Focusing and Leveling Measurement System in Nanoscale Lithography

孙裕文 ^1,2,*李世光 ¹叶甜春 ¹宗明成 ¹

作者单位

¹ 中国科学院微电子研究所，北京 100029

² 中国科学院大学，北京 100049

引用该论文

孙裕文, 李世光, 叶甜春, 宗明成. 纳米光刻中调焦调平测量系统的工艺相关性[J]. 光学学报, 2016, 36(8): 0812001.

Sun Yuwen, Li Shiguang, Ye Tianchun, Zong Mingcheng. Process Dependency of Focusing and Leveling Measurement System in Nanoscale Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2016, 36(8): 0812001.

引用列表

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5、基于条纹投影的显微镜自动对焦研究光学学报, 2019, 39 (8): 0818001

6、基于最小二乘法的自校准位姿方案光学学报, 2018, 38 (12): 1212001

7、调平聚焦伺服控制系统的优化设计光学学报, 2017, 37 (1): 122001

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