光学 精密工程, 2018, 26 (3): 588, 网络出版: 2018-04-25
用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析
Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching
基本信息
DOI: | 10.3788/ope.20182603.0588 |
中图分类号: | O436.1;TP202.2 |
栏目: | 微纳技术与精密机械 |
项目基金: | 中国科学院重大科研装备研制项目(No.YZ201005)、 国家重大科学仪器设备开发专项资金资助项目(No.2011YQ120023) |
收稿日期: | 2017-09-13 |
修改稿日期: | 2017-11-24 |
网络出版日期: | 2018-04-25 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
沈晨, 谭鑫, 朱继伟, 张伟, 齐向东. 用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析[J]. 光学 精密工程, 2018, 26(3): 588. SHEN Chen, TAN Xin, ZHU Ji-wei, ZHANG Wei, QI Xiang-dong. Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching[J]. Optics and Precision Engineering, 2018, 26(3): 588.