用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析

沈晨; 谭鑫; 朱继伟; 张伟; 齐向东

doi:doi:10.3788/ope.20182603.0588

光学精密工程, 2018, 26 (3): 588, 网络出版: 2018-04-25

用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析

Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching

沈晨 ^1,2谭鑫 ¹朱继伟 ¹张伟 ¹齐向东 ¹

作者单位

¹ 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林长春 130033

² 中国科学院大学, 北京100049

图 & 表

沈晨, 谭鑫, 朱继伟, 张伟, 齐向东. 用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析[J]. 光学精密工程, 2018, 26(3): 588. SHEN Chen, TAN Xin, ZHU Ji-wei, ZHANG Wei, QI Xiang-dong. Trajectory-fitting and testing error analysis of stage for curved grating etching[J]. Optics and Precision Engineering, 2018, 26(3): 588.