中国激光, 2017, 44 (9): 0905002, 网络出版: 2017-09-07
扫描干涉场曝光系统光斑尺寸与光路设计 
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Design of Spot Size and Optical Path in Scanning Beam Interference Lithography System
基本信息
| DOI: | 10.3788/CJL201744.0905002 |
| 中图分类号: | O436.1 |
| 栏目: | 光束传输与控制 |
| 项目基金: | 国家重大科研装备研制项目(61227901) |
| 收稿日期: | 2017-03-23 |
| 修改稿日期: | 2017-05-05 |
| 网络出版日期: | 2017-09-07 |
| 通讯作者: | 王玮 (wayne_lzu@163.com) |
| 备注: | -- |
王玮, 姜珊, 宋莹, 巴音贺希格. 扫描干涉场曝光系统光斑尺寸与光路设计[J]. 中国激光, 2017, 44(9): 0905002. Wang Wei, Jiang Shan, Song Ying, Bayanheshig. Design of Spot Size and Optical Path in Scanning Beam Interference Lithography System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2017, 44(9): 0905002.
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