强激光与粒子束, 2014, 26 (8): 084003, 网络出版: 2014-07-30  

γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析

Mechanism of crossover of transconductance curves in 0.5 μm multi-finger NMOS FETs before and after γ irradiation
潘立丁 1,2,3,*石瑞英 1,2,3龚敏 1,2,3刘杰 1,2,3
作者单位
1 四川大学 物理科学与技术学院 微电子学系, 成都 610064
2 四川大学 辐射物理及技术教育部重点实验室, 成都 610064
3 四川大学 物理科学与技术学院, 微电子技术四川省重点实验室, 成都 610064
基本信息
DOI: 10.11884/hplpb201426.084003
中图分类号: TN386.1;TP391.9
栏目: 粒子束技术
项目基金: 国家自然科学基金项目(61176096)
收稿日期: 2014-01-08
修改稿日期: 2014-05-09
网络出版日期: 2014-07-30
通讯作者: 潘立丁 (wakemeupkk@live.cn)
备注: --

潘立丁, 石瑞英, 龚敏, 刘杰. γ辐照前后多栅NMOS转移特性曲线交叉现象机理分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26(8): 084003. Pan Liding, Shi Ruiying, Gong Min, Liu Jie. Mechanism of crossover of transconductance curves in 0.5 μm multi-finger NMOS FETs before and after γ irradiation[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26(8): 084003.

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