光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制

李美萱; 王丽; 董连和

doi:doi:10.3788/CJL201845.0103002

中国激光, 2018, 45 (1): 0103002, 网络出版: 2018-01-24

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Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System

李美萱 ^1,2,*王丽 ¹董连和 ¹

作者单位

¹ 长春理工大学光电工程学院, 吉林长春 130022

² 长春理工大学光电信息学院, 吉林长春 130022

引用该论文

李美萱, 王丽, 董连和. 光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0103002.

Li Meixuan, Wang Li, Dong Lianhe. Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0103002.

引用列表

1、 365 nm光刻照明系统中变焦系统的设计及公差分析红外与激光工程, 2022, 51 (7): 20210524

2、 N个衰减片杂斑特性表征及抑制方法光学学报, 2021, 41 (5): 0508001

3、 248 nm透过率线性渐变光学薄膜的设计与制备中国激光, 2020, 47 (6): 603001

4、光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术中国激光, 2019, 46 (10): 1004005

5、基于二维光子晶体的温控光衰减器激光与光电子学进展, 2019, 56 (15): 152301

6、基于调频的相位调制潜像防伪方法光学学报, 2019, 39 (8): 0805001

李美萱, 王丽, 董连和. 光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0103002. Li Meixuan, Wang Li, Dong Lianhe. Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0103002.

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