中国激光, 2018, 45 (1): 0103002, 网络出版: 2018-01-24
光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制
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Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System
薄膜 深紫外光刻 光可变衰减器 截止滤光膜 光学镀膜 thin films deep ultraviolet lithography variable optical attenuator cutoff filters optical coating
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