中国激光, 2018, 45 (1): 0103002, 网络出版: 2018-01-24
光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制 
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Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System
基本信息
| DOI: | 10.3788/CJL201845.0103002 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | 材料与薄膜 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金青年基金(61308051)、国家自然科学基金面上项目(91338116) |
| 收稿日期: | 2017-07-18 |
| 修改稿日期: | 2017-07-31 |
| 网络出版日期: | 2018-01-24 |
| 通讯作者: | 李美萱 (limeixuannuc@163.com) |
| 备注: | -- |
李美萱, 王丽, 董连和. 光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0103002. Li Meixuan, Wang Li, Dong Lianhe. Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0103002.
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