光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制

李美萱; 王丽; 董连和

doi:doi:10.3788/CJL201845.0103002

中国激光, 2018, 45 (1): 0103002, 网络出版: 2018-01-24

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Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System

李美萱 ^1,2,*王丽 ¹董连和 ¹

作者单位

¹ 长春理工大学光电工程学院, 吉林长春 130022

² 长春理工大学光电信息学院, 吉林长春 130022

图 & 表

图 1. 光刻曝光系统示意图

Fig. 1. Schematic of lithography exposure system

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图 2. 新型光可变衰减器结构示意图。(a)二维结构;(b)三维结构

Fig. 2. Structure diagram of the new optical variable attenuator. (a) Two-dimensional structure; (b) three-dimensional structure

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图 3. 衰减膜透射率与入射角的关系

Fig. 3. Relationship between transmittance of attenuation films and incident angle

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图 4. 减反膜反射率与入射角的关系

Fig. 4. Relationship between reflectance of antireflective films and incident angle

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图 5. 减反膜反射率与波长的关系

Fig. 5. Relationship between wavelength and reflectance of antireflective films

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图 6. 光可变衰减器透射率测试原理图

Fig. 6. Test schematic of optical variable attenuator transmittance

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图 7. 光衰减器在不同入射角度下的透射率

Fig. 7. Transmittance of attenuator at different incident angles

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表 1193 nm波长常用的镀膜材料特性

Table1. Characteristic of common coating materials for 193 nm wavelength

Optional material	Refractive index	Transparent area /μm	Melting point /℃	Evaporation temperature /℃
MgF₂	1.40-1.45	0.11-10	1266	1540
AlF₃	1.40-1.45	0.2-20	890	900
SiO₂	1.45-1.55	0.2-9	1700	1600
LaF₃	1.60-1.65	0.2-12	1490	1490
CaF₂	1.65-1.75	0.3-5	1460	1350
Al₂O₃	1.70-1.80	0.2-8	2020	2100

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李美萱, 王丽, 董连和. 光刻曝光系统中新型光可变衰减器的研制[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0103002. Li Meixuan, Wang Li, Dong Lianhe. Development of a Novel Optical Variable Attenuator in Lithography Exposure System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0103002.

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图 1. 光刻曝光系统示意图

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Fig. 2. Structure diagram of the new optical variable attenuator. (a) Two-dimensional structure; (b) three-dimensional structure

图 3. 衰减膜透射率与入射角的关系

Fig. 3. Relationship between transmittance of attenuation films and incident angle

图 4. 减反膜反射率与入射角的关系

Fig. 4. Relationship between reflectance of antireflective films and incident angle

图 5. 减反膜反射率与波长的关系

Fig. 5. Relationship between wavelength and reflectance of antireflective films

图 6. 光可变衰减器透射率测试原理图

Fig. 6. Test schematic of optical variable attenuator transmittance

图 7. 光衰减器在不同入射角度下的透射率

Fig. 7. Transmittance of attenuator at different incident angles

表 1193 nm波长常用的镀膜材料特性

Table1. Characteristic of common coating materials for 193 nm wavelength

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图 3. 衰减膜透射率与入射角的关系

Fig. 3. Relationship between transmittance of attenuation films and incident angle

图 4. 减反膜反射率与入射角的关系

Fig. 4. Relationship between reflectance of antireflective films and incident angle

图 5. 减反膜反射率与波长的关系

Fig. 5. Relationship between wavelength and reflectance of antireflective films

图 6. 光可变衰减器透射率测试原理图

Fig. 6. Test schematic of optical variable attenuator transmittance

图 7. 光衰减器在不同入射角度下的透射率

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