中国光学, 2011, 4 (1): 86, 网络出版: 2011-04-01
不同气体环境下532 nm激光诱导硅表面形貌的研究
Surface morphology of silicon induced by 532 nm nanosecond laser under different ambient atmospheres
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | TN249 |
| 栏目: | 激光技术 |
| 项目基金: | 四川省教育厅资助科研项目（No.08ZB006和No.09ZA128）、 西南科技大学博士研究基金资助项目（No.06ZX7113） |
| 收稿日期: | 2010-08-11 |
| 修改稿日期: | 2010-10-13 |
| 网络出版日期: | 2011-04-01 |
| 通讯作者: | 杨宏道 (yanghongdao2006@163.com) |
| 备注: | -- |
杨宏道, 李晓红, 李国强, 袁春华, 邱荣. 不同气体环境下532 nm激光诱导硅表面形貌的研究[J]. 中国光学, 2011, 4(1): 86. YANG Hong-dao, LI Xiao-hong, LI Guo-qiang, YUAN Chun-hua, QIU Rong. Surface morphology of silicon induced by 532 nm nanosecond laser under different ambient atmospheres[J]. Chinese Optics, 2011, 4(1): 86.
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