中国光学, 2011, 4 (1): 86, 网络出版: 2011-04-01
不同气体环境下532 nm激光诱导硅表面形貌的研究
Surface morphology of silicon induced by 532 nm nanosecond laser under different ambient atmospheres
激光应用 表面微处理 激光辅助化学刻蚀 硅 表面形貌 laser application surface micro-processing laser-induced chemical etching silicon surface morphology
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