光学学报, 2007, 27 (3): 494, 网络出版: 2007-03-15  

刻蚀改变InGaN/AlGaN应变多量子阱发光特性

Photoluminescence of InGaN/AlGaN Strained Multiple Quantum Wells Influenced by Dry Etching
作者单位
1 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室, 上海 200050
2 中国科学院研究生院, 北京 100039
基本信息
DOI: --
中图分类号: TN383.1
栏目: 材料
项目基金: 国家重点基础研究计划(973计划, 2003CB314903)的资助课题。
收稿日期: 2006-07-03
修改稿日期: 2006-10-08
网络出版日期: 2007-03-15
通讯作者: 曹萌 (cm2004@mail.sim.ac.cn)
备注: --

曹萌, 吴惠桢, 劳燕锋, 刘成, 谢正生. 刻蚀改变InGaN/AlGaN应变多量子阱发光特性[J]. 光学学报, 2007, 27(3): 494. 曹萌, 吴惠桢, 劳燕锋, 刘成, 谢正生. Photoluminescence of InGaN/AlGaN Strained Multiple Quantum Wells Influenced by Dry Etching[J]. Acta Optica Sinica, 2007, 27(3): 494.

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