半导体光电, 2013, 34 (4): 607, 网络出版: 2013-08-28  

离子辅助沉积电子束蒸发Si基SiO2薄膜的研究

Study on Performance of Si-based SiO2 Optical Films with IBAD Electron Beam Evaporation
作者单位
1 北京工业大学 光电子技术省部共建教育部重点实验室, 北京 100124
2 邓迪大学 工程物理和数学学院, 邓迪DD14HN
3 集成光电子学国家重点联合实验室, 北京 100083
4 华侨大学 信息科学与工程学院, 福建 厦门 361021
基本信息
DOI: --
中图分类号: O484
栏目: 材料、结构及工艺
项目基金: 集成光电子学国家重点联合实验室开放课题(2011KFB002).
收稿日期: 2013-01-08
修改稿日期: --
网络出版日期: 2013-08-28
通讯作者: 陈京湘 (chenjingxiang206@163.com)
备注: --

陈京湘, 崔碧峰, 丁颖, 计伟, 王晓玲, 张松, 凌小涵, 李佳莼, 马钰慧, 苏道军. 离子辅助沉积电子束蒸发Si基SiO2薄膜的研究[J]. 半导体光电, 2013, 34(4): 607. CHEN Jingxiang, CUI Bifeng, DING Ying, JI Wei, WANG Xiaoling, ZHANG Song, LING Xiaohan, LI Jiachun, MA Yuhui, SU Daojun. Study on Performance of Si-based SiO2 Optical Films with IBAD Electron Beam Evaporation[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2013, 34(4): 607.

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