利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场

唐雄贵; 郭永康; 杜惊雷; 刘世杰; 高峰; 高福华

光学学报, 2005, 25 (2): 246, 网络出版: 2006-05-22

利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场

Analysis of Diffractive Image Field in Thick Film Photo-Resist by Using Fourier Modal Method

唐雄贵 ^*郭永康杜惊雷刘世杰高峰高福华

作者单位

四川大学物理科学与技术学院, 成都 610064

引用该论文

唐雄贵, 郭永康, 杜惊雷, 刘世杰, 高峰, 高福华. 利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场[J]. 光学学报, 2005, 25(2): 246.

唐雄贵, 郭永康, 杜惊雷, 刘世杰, 高峰, 高福华. Analysis of Diffractive Image Field in Thick Film Photo-Resist by Using Fourier Modal Method[J]. Acta Optica Sinica, 2005, 25(2): 246.

引用列表

1、基于傅里叶模方法的KDP晶体镀膜减反技术强激光与粒子束, 2011, 23 (2): 412

2、小尺度波纹对KDP光学元件透射比的影响光学学报, 2010, 30 (4): 1162

3、接近式光刻衍射光场的有效波前作用规律分析光学学报, 2010, 30 (2): 525

4、二维机械准直器准直光束的衍射光学学报, 2007, 27 (8): 1377

5、厚胶光刻非线性畸变的校正光学学报, 2006, 26 (7): 1032

唐雄贵, 郭永康, 杜惊雷, 刘世杰, 高峰, 高福华. 利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场[J]. 光学学报, 2005, 25(2): 246. 唐雄贵, 郭永康, 杜惊雷, 刘世杰, 高峰, 高福华. Analysis of Diffractive Image Field in Thick Film Photo-Resist by Using Fourier Modal Method[J]. Acta Optica Sinica, 2005, 25(2): 246.

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