光学学报, 2005, 25 (2): 246, 网络出版: 2006-05-22
利用傅里叶模方法分析厚层光刻胶内衍射光场
Analysis of Diffractive Image Field in Thick Film Photo-Resist by Using Fourier Modal Method
物理光学 矢量衍射理论 傅里叶模方法 厚层光刻胶 衍射光场 光刻模拟 physical optics vector diffraction theory Fourier modal method thick film photo-resist diffractive image field simulation of optical lithography
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