基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计

宋强; 朱菁; 王健; 张方; 吕向博; 杨宝喜; 黄惠杰

doi:doi:10.3788/aos201535.0122005

光学学报, 2015, 35 (1): 0122005, 网络出版: 2014-12-15

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A Mixed Gradient Algorithm for High Performance DOE Design in Off-Axis Lithography Illumination System

宋强 ^1,2,*朱菁 ^1,2王健 ^1,2张方 ^1,2吕向博 ^1,2杨宝喜 ^1,2黄惠杰 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800

² 中国科学院大学, 北京 100049

图 & 表

宋强, 朱菁, 王健, 张方, 吕向博, 杨宝喜, 黄惠杰. 基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计[J]. 光学学报, 2015, 35(1): 0122005. Song Qiang, Zhu Jing, Wang Jian, Zhang Fang, Lü Xiangbo, Yang Baoxi, Huang Huijie. A Mixed Gradient Algorithm for High Performance DOE Design in Off-Axis Lithography Illumination System[J]. Acta Optica Sinica, 2015, 35(1): 0122005.