激光与光电子学进展, 2020, 57 (3): 032202, 网络出版: 2020-02-17
基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究 
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High-Precision ITO Electrode Wet Etching Technology Based on Maskless Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/LOP57.032202 |
| 中图分类号: | TN305.7 |
| 栏目: | 光学设计与制造 |
| 项目基金: | 中央高校基本科研业务费专项基金（3132019189） |
| 收稿日期: | 2019-06-11 |
| 修改稿日期: | 2019-07-31 |
| 网络出版日期: | 2020-02-17 |
| 通讯作者: | 刘志坚 (liuzhijian@dlmu.edu.cn) |
| 备注: | -- |
殷艺, 刘志坚, 王赛杰, 武森, 严志军, 潘新祥. 基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究[J]. 激光与光电子学进展, 2020, 57(3): 032202. Yi Yin, Zhijian Liu, Saijie Wang, Sen Wu, Zhijun Yan, Xinxiang Pan. High-Precision ITO Electrode Wet Etching Technology Based on Maskless Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2020, 57(3): 032202.
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