激光与光电子学进展, 2020, 57 (3): 032202, 网络出版: 2020-02-17
基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究 
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High-Precision ITO Electrode Wet Etching Technology Based on Maskless Lithography
光学设计 ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 optical design ITO electrode wet etching maskless lithography high precision
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