光学学报, 2019, 39 (9): 0905001, 网络出版: 2019-09-09 复制并引用该论文  本文已被引 12 次  被引通知

图 & 表

图 1. 超精密激光直写系统

Fig. 1. Ultra-precision laser direct writing system

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图 2. 扫描速度为v=40 mm/s时的工件台误差。(a)X步进方向误差;(b)工件台偏摆误差;(c)工件台对应的扫描速度

Fig. 2. Platform error when scanning velocity is 40 mm/s. (a) Error in X direction; (b) deflection error of platform; (c) corresponding scanning velocity of platform

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图 3. 步进扫描曝光示意图。(a)正视图;(b)俯视图

Fig. 3. Schematics of step-scanning exposure. (a) Front view; (b) top view

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图 4. 拼接曝光中栅距误差示意图

Fig. 4. Schematic of grating period error in stitching exposure

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图 5. 制作栅线密度为1200 line/mm的光栅时,栅距测量误差对拼接曝光对比度的影响

Fig. 5. Effect of grating period error on stitching exposure contrast when fabricating gratings with grid line density of 1200 line/mm

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图 6. 曝光光栅相位误差分布

Fig. 6. Phase error distribution of exposed grating

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图 7. 转角测量结果

Fig. 7. Measurement result of corner

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图 8. 像光栅栅距测量示意图

Fig. 8. Schematic of measurement for image grating period

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图 9. 光栅栅距测量数据

Fig. 9. Grating period measurement data

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图 10. 二维光栅掩模制作流程示意图

Fig. 10. Schematic of 2D grating mask fabrication

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图 11. 二维光栅掩模原子力显微镜图。(a)三维轮廓图;(b)截面图

Fig. 11. AFM of 2D grating mask. (a) 3D profile; (b) cross section

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图 12. 光栅掩模扫描电镜图

Fig. 12. Scanning electron microscopes of grating mask

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图 13. 栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模图

Fig. 13. 2D grating mask (1200 line/mm)

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李民康, 向显嵩, 周常河, 韦春龙, 贾伟, 项长铖, 鲁云开, 朱世曜. 基于超精密激光直写系统制作二维光栅[J]. 光学学报, 2019, 39(9): 0905001. Minkang Li, Xiansong Xiang, Changhe Zhou, Chunlong Wei, Wei Jia, Changcheng Xiang, Yunkai Lu, Shiyao Zhu. Two-Dimensional Grating Fabrication Based on Ultra-Precision Laser Direct Writing System[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(9): 0905001.