1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学材料与光电研究中心, 北京 100049
3 暨南大学光子技术研究院, 广东 广州 511443
二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分布均匀。实验结果证明了超精密激光直写系统能够制作出二维光栅掩模,在制作大尺寸、高精度二维计量光栅方面有着广阔的应用前景。
光栅 超精密系统 激光直写 栅距测量
1 上海大学机电工程与自动化学院, 上海 200072
2 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
3 中国科学院大学, 北京 100049
衍射光栅在各行各业有着广泛的应用, 这就要求光栅必须具有良好的质量。在制作大尺寸光栅的各种方法中, 激光直写技术具有明显优势, 采用并行激光直写技术制作出了尺寸为100 mm×100 mm、线数为1780 line/mm的正弦形光栅。首先对光栅进行理论分析, 找出正弦形光栅在效率最高时的槽深;然后用激光直写技术制作光栅, 最后在光栅表面镀上一层金膜。测量了光栅的衍射效率, 并预估光栅的均匀性。结果表明：光栅的衍射效率约为90%, 与理论值接近, 而且分布很均匀, 证明了并行激光直写技术制作高质量、大尺寸光栅的可行性。
光栅 镀金光栅 测量 激光直写 衍射效率
