中国激光, 2012, 39 (9): 0909001, 网络出版: 2012-07-04
基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究
Alignment Scheme Research Based on Equivalent Overlapped Gratings for Reflective Lithography Alignment
基本信息
| DOI: | 10.3788/cjl201239.0909001 |
| 中图分类号: | O436.1 |
| 栏目: | 全息与信息处理 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(60976077，61076099)资助课题。 |
| 收稿日期: | 2012-04-20 |
| 修改稿日期: | 2012-05-14 |
| 网络出版日期: | 2012-07-04 |
| 通讯作者: | 朱江平 (zsyioe@163.com) |
| 备注: | -- |
朱江平, 胡松, 于军胜, 唐燕, 周绍林, 刘旗, 何渝. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光, 2012, 39(9): 0909001. Zhu Jiangping, Hu Song, Yu Junsheng, Tang Yan, Zhou Shaolin, Liu Qi, He Yu. Alignment Scheme Research Based on Equivalent Overlapped Gratings for Reflective Lithography Alignment[J]. Chinese Journal of Lasers, 2012, 39(9): 0909001.
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