中国激光, 2012, 39 (9): 0909001, 网络出版: 2012-07-04   

基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究

Alignment Scheme Research Based on Equivalent Overlapped Gratings for Reflective Lithography Alignment
作者单位
1 中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209
2 电子科技大学光电信息学院, 四川 成都 610054
3 中国科学院研究生院, 北京 100049
4 华南理工大学电子与信息学院, 广东 广州 610540
引用该论文

朱江平, 胡松, 于军胜, 唐燕, 周绍林, 刘旗, 何渝. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光, 2012, 39(9): 0909001.

Zhu Jiangping, Hu Song, Yu Junsheng, Tang Yan, Zhou Shaolin, Liu Qi, He Yu. Alignment Scheme Research Based on Equivalent Overlapped Gratings for Reflective Lithography Alignment[J]. Chinese Journal of Lasers, 2012, 39(9): 0909001.

参考文献

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    Zhou Shaolin, Yang Yong, Chen Wangfu et al.. Dual-grating-based nanometer measurement[J]. Acta Optica Sinica, 2009, 29(3): 702~706

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朱江平, 胡松, 于军胜, 唐燕, 周绍林, 刘旗, 何渝. 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究[J]. 中国激光, 2012, 39(9): 0909001. Zhu Jiangping, Hu Song, Yu Junsheng, Tang Yan, Zhou Shaolin, Liu Qi, He Yu. Alignment Scheme Research Based on Equivalent Overlapped Gratings for Reflective Lithography Alignment[J]. Chinese Journal of Lasers, 2012, 39(9): 0909001.

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