沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响

肖祁陵; 贺洪波; 邵淑英; 邵建达; 范正修

光学学报, 2008, 28 (5): 1007, 网络出版: 2008-05-20

沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响

Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films

肖祁陵 ^1,2,*贺洪波 ¹邵淑英 ¹邵建达 ¹范正修 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800

² 中国科学院研究生院, 北京100039

引用该论文

肖祁陵, 贺洪波, 邵淑英, 邵建达, 范正修. 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响[J]. 光学学报, 2008, 28(5): 1007.

Xiao Qiling, He Hongbo, Shao Shuying, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films[J]. Acta Optica Sinica, 2008, 28(5): 1007.

引用列表

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肖祁陵, 贺洪波, 邵淑英, 邵建达, 范正修. 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响[J]. 光学学报, 2008, 28(5): 1007. Xiao Qiling, He Hongbo, Shao Shuying, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films[J]. Acta Optica Sinica, 2008, 28(5): 1007.

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