光学学报, 2008, 28 (5): 1007, 网络出版: 2008-05-20
沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响
Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films
薄膜光学 残余应力 氧化钇稳定氧化锆薄膜 沉积温度 thin film optics residual stress yttrial-stabilized zirconia films deposition temperature
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