光学学报, 2008, 28 (5): 1007, 网络出版: 2008-05-20
沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响
Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | O484.1 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 国家自然科学基金(10704078)资助课题。 |
收稿日期: | 2007-08-24 |
修改稿日期: | 2007-10-10 |
网络出版日期: | 2008-05-20 |
通讯作者: | 肖祁陵 (xql324@126.com) |
备注: | -- |
肖祁陵, 贺洪波, 邵淑英, 邵建达, 范正修. 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响[J]. 光学学报, 2008, 28(5): 1007. Xiao Qiling, He Hongbo, Shao Shuying, Shao Jianda, Fan Zhengxiu. Influence of Deposition Temperature on Residual Stress of Yttria-Stabilized Zirconia Thin Films[J]. Acta Optica Sinica, 2008, 28(5): 1007.