光学学报, 2019, 39 (12): 1231001, 网络出版: 2019-12-06
单一蒸发源膜厚分布的均匀性 下载: 1510次
Uniformity of Film Thickness Distribution for Single Evaporation Source
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201939.1231001 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | “十三五”装备预研共用技术和领域基金(414xxxx0202) |
收稿日期: | 2019-07-01 |
修改稿日期: | 2019-08-05 |
网络出版日期: | 2019-12-06 |
通讯作者: | 赵迪 (zhaodi9425@163.com) |
备注: | -- |
付秀华, 赵迪, 卢成, 马国俊, 鲍刚华. 单一蒸发源膜厚分布的均匀性[J]. 光学学报, 2019, 39(12): 1231001. Xiuhua Fu, Di Zhao, Cheng Lu, Guojun Ma, Ganghua Bao. Uniformity of Film Thickness Distribution for Single Evaporation Source[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(12): 1231001.