单一蒸发源膜厚分布的均匀性

付秀华; 赵迪; 卢成; 马国俊; 鲍刚华

doi:doi:10.3788/AOS201939.1231001

光学学报, 2019, 39 (12): 1231001, 网络出版: 2019-12-06

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Uniformity of Film Thickness Distribution for Single Evaporation Source

付秀华 ¹赵迪 ^1,*卢成 ²马国俊 ¹鲍刚华 ²

作者单位

¹ 长春理工大学光电工程学院, 吉林长春 130022

² 成都国泰真空设备有限公司, 四川成都 611130

补充材料

付秀华, 赵迪, 卢成, 马国俊, 鲍刚华. 单一蒸发源膜厚分布的均匀性[J]. 光学学报, 2019, 39(12): 1231001. Xiuhua Fu, Di Zhao, Cheng Lu, Guojun Ma, Ganghua Bao. Uniformity of Film Thickness Distribution for Single Evaporation Source[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(12): 1231001.