用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计

胡中华; 宝喜; 朱菁; 肖艳芬; 曾爱军; 黄惠杰

doi:doi:10.3788/cjl201340.0616001

中国激光, 2013, 40 (6): 0616001, 网络出版: 2013-05-15

用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计

Design of Diffractive Optical Element for Pupil Shaping Optics in Projection Lithography System

胡中华 ^1,2,*宝喜 ^1,2朱菁 ¹肖艳芬 ¹曾爱军 ^1,2黄惠杰 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800

² 中国科学院大学, 北京 100049

引用该论文

胡中华, 宝喜, 朱菁, 肖艳芬, 曾爱军, 黄惠杰. 用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计[J]. 中国激光, 2013, 40(6): 0616001.

Hu Zhonghua, Yang Baoxi, Zhu Jing, Xiao Yanfen, Zeng Aijun, Huang Huijie. Design of Diffractive Optical Element for Pupil Shaping Optics in Projection Lithography System[J]. Chinese Journal of Lasers, 2013, 40(6): 0616001.

引用列表

1、步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展激光与光电子学进展, 2022, 59 (9): 0922011

2、浸没式光刻照明系统中会聚镜的设计及公差分析应用光学, 2019, 40 (5): 876

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