光子学报, 2019, 48 (4): 0416003, 网络出版: 2019-04-28  

氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响

Effect of Nitrogen Gas Flow Rate on Properties of Diamond Like Carbon Films Prepared by Magnetron Sputtering
作者单位
南京航空航天大学 材料科学与技术学院, 江苏省能量转换材料与技术重点实验室, 南京 211100
基本信息
DOI: 10.3788/gzxb20194804.0416003
中图分类号: O649.4
栏目:
项目基金: 国家自然科学基金(No.61774084), 江苏省前瞻性联合研究项目(No.BY2016003-09),江苏省科技成果转化专项资金项目(No.BA2015121),中央高校基本科研业务费项目(No.3082017NP2017106),江苏高校优势学科建设工程项目
收稿日期: 2018-11-20
修改稿日期: 2019-02-15
网络出版日期: 2019-04-28
通讯作者: 王洪美 (iwhongmei@163.com)
备注: --

王洪美, 李玉芳, 沈鸿烈, 翟子豪, 陈洁仪, 杨家乐, 杨艳. 氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响[J]. 光子学报, 2019, 48(4): 0416003. WANG Hong-mei, LI Yu-fang, SHEN Hong-lie, ZHAI Zi-hao, CHEN Jie-yi, YANG Jia-le, YANG Yan. Effect of Nitrogen Gas Flow Rate on Properties of Diamond Like Carbon Films Prepared by Magnetron Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2019, 48(4): 0416003.

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