氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响

王洪美; 李玉芳; 沈鸿烈; 翟子豪; 陈洁仪; 杨家乐; 杨艳

doi:doi:10.3788/gzxb20194804.0416003

光子学报, 2019, 48 (4): 0416003, 网络出版: 2019-04-28

氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响

Effect of Nitrogen Gas Flow Rate on Properties of Diamond Like Carbon Films Prepared by Magnetron Sputtering

王洪美 ^*李玉芳沈鸿烈翟子豪陈洁仪杨家乐杨艳

作者单位

南京航空航天大学材料科学与技术学院, 江苏省能量转换材料与技术重点实验室, 南京 211100

补充材料

王洪美, 李玉芳, 沈鸿烈, 翟子豪, 陈洁仪, 杨家乐, 杨艳. 氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响[J]. 光子学报, 2019, 48(4): 0416003. WANG Hong-mei, LI Yu-fang, SHEN Hong-lie, ZHAI Zi-hao, CHEN Jie-yi, YANG Jia-le, YANG Yan. Effect of Nitrogen Gas Flow Rate on Properties of Diamond Like Carbon Films Prepared by Magnetron Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2019, 48(4): 0416003.