光学 精密工程, 2016, 24 (3): 469, 网络出版: 2016-04-13
掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响
Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens
基本信息
| DOI: | 10.3788/ope.20162403.0469 |
| 中图分类号: | TN305.7;TH703 |
| 栏目: | 现代应用光学 |
| 项目基金: | 国家重大科技专项资助课题 |
| 收稿日期: | 2015-05-26 |
| 修改稿日期: | 2015-07-20 |
| 网络出版日期: | 2016-04-13 |
| 通讯作者: | 杨旺 (yangwang@ciomp.ac.cn) |
| 备注: | -- |
杨旺, 黄玮, 尚红波. 掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响[J]. 光学 精密工程, 2016, 24(3): 469. YANG Wang, HUANG Wei, SHANG Hong-bo. Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(3): 469.
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