光学 精密工程, 2016, 24 (3): 469, 网络出版: 2016-04-13
掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响
Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens
光刻 光学设计 光刻投影物镜 畸变 勒让德多项式 公差分析 lithography optical design lithographic projection lens optical distortion Legendre polynomials tolerance analysis
知识挖掘
相关论文
本文相似领域研究进展,
知识服务
本文主要研究领域论文发表情况:
2240篇
2096篇
168篇
129篇
79篇
62篇
18篇
3篇
本文研究领域论文发表情况(统计图):
杨旺, 黄玮, 尚红波. 掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响[J]. 光学 精密工程, 2016, 24(3): 469. YANG Wang, HUANG Wei, SHANG Hong-bo. Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(3): 469.