掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响

杨旺; 黄玮; 尚红波

doi:doi:10.3788/ope.20162403.0469

光学精密工程, 2016, 24 (3): 469, 网络出版: 2016-04-13

掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响

Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens

杨旺 ^1,2,*黄玮 ¹尚红波 ¹

作者单位

¹ 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林长春 130033

² 中国科学院大学, 北京 100049

图 & 表

杨旺, 黄玮, 尚红波. 掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响[J]. 光学精密工程, 2016, 24(3): 469. YANG Wang, HUANG Wei, SHANG Hong-bo. Effect of alignment errors of reticle on distortion in lithographic projection lens[J]. Optics and Precision Engineering, 2016, 24(3): 469.