光学学报, 2004, 24 (1): 24, 网络出版: 2006-06-12
厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析
PECVD Deposition and Characterization of Thick Silica Film for Optical Waveguide
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O484.5 |
| 栏目: | 光纤光学与光通信 |
| 项目基金: | 浙江省科技计划重大项目(001101027)、高等学校重点实验室访问学者基金资助课题. |
| 收稿日期: | 2002-09-27 |
| 修改稿日期: | 2003-04-21 |
| 网络出版日期: | 2006-06-12 |
| 通讯作者: | 娄丽芳 (lflou@hotmail.com) |
| 备注: | -- |
娄丽芳, 盛钟延, 姚奎鸿, 肖丙刚, 何赛灵. 厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析[J]. 光学学报, 2004, 24(1): 24. 娄丽芳, 盛钟延, 姚奎鸿, 肖丙刚, 何赛灵. PECVD Deposition and Characterization of Thick Silica Film for Optical Waveguide[J]. Acta Optica Sinica, 2004, 24(1): 24.
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