厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析

娄丽芳; 盛钟延; 姚奎鸿; 肖丙刚; 何赛灵

光学学报, 2004, 24 (1): 24, 网络出版: 2006-06-12

厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析

PECVD Deposition and Characterization of Thick Silica Film for Optical Waveguide

娄丽芳 ^1,*盛钟延 ¹姚奎鸿 ²肖丙刚 ¹何赛灵 ¹

作者单位

¹ 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,光及电磁波研究中心,杭州,310027

² 浙江工程学院材料工程中心,杭州,310027

图 & 表

娄丽芳, 盛钟延, 姚奎鸿, 肖丙刚, 何赛灵. 厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析[J]. 光学学报, 2004, 24(1): 24. 娄丽芳, 盛钟延, 姚奎鸿, 肖丙刚, 何赛灵. PECVD Deposition and Characterization of Thick Silica Film for Optical Waveguide[J]. Acta Optica Sinica, 2004, 24(1): 24.