激光与光电子学进展, 2006, 43 (8): 13, 网络出版: 2006-08-31
浸没式光刻技术的研究进展 
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Development of Immersion Lithography
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | TN305.7 |
| 栏目: | 综述 |
| 项目基金: | -- |
| 收稿日期: | 2006-05-11 |
| 修改稿日期: | 2006-06-06 |
| 网络出版日期: | 2006-08-31 |
| 通讯作者: | 袁琼雁 (yuanqiongyan@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
袁琼雁, 王向朝, 施伟杰, 李小平. 浸没式光刻技术的研究进展[J]. 激光与光电子学进展, 2006, 43(8): 13. 袁琼雁, 王向朝, 施伟杰, 李小平. Development of Immersion Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2006, 43(8): 13.
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